L'invenzione concerne una metodologhia ed un apparato combinato per eseguire misure di riflettanza e trasmittanza emisferica/emisferica comprendente una sorgente di luce, una sfera integratrice a cui è connesso un primo fotodiodo di misura collegabile a un radiometro multicanale, detta sfera integratrice avendo un diffusore di luce interno, una prima finestra d'ingresso, un oblò che serve ad osservare l'interno della sfera, e una seconda finestra di interfacciamento con una sfera supplementare di dimensioni più piccole di quelle della sfera integratrice principale, a cui è connesso un secondo fotodiodo di misura collegabile a detto radiometro multicanale, detta sfera supplementare essendo anche fornita di un oblò che serve a traguardare all'interno di essa.
Apparecchio e metodo per la caratterizzazione ottica in luce diffusa di materiali e dispositivi fotovolataici
PARRETTA, Antonio;
2000
Abstract
L'invenzione concerne una metodologhia ed un apparato combinato per eseguire misure di riflettanza e trasmittanza emisferica/emisferica comprendente una sorgente di luce, una sfera integratrice a cui è connesso un primo fotodiodo di misura collegabile a un radiometro multicanale, detta sfera integratrice avendo un diffusore di luce interno, una prima finestra d'ingresso, un oblò che serve ad osservare l'interno della sfera, e una seconda finestra di interfacciamento con una sfera supplementare di dimensioni più piccole di quelle della sfera integratrice principale, a cui è connesso un secondo fotodiodo di misura collegabile a detto radiometro multicanale, detta sfera supplementare essendo anche fornita di un oblò che serve a traguardare all'interno di essa.I documenti in SFERA sono protetti da copyright e tutti i diritti sono riservati, salvo diversa indicazione.